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世界初の「超臨界半導体装備」中国に流出…韓国人一党5人法廷行き

ⓒ 中央日報/中央日報日本語版

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国家核心技術に指定された半導体洗浄装備の製造技術を中国に流出させた容疑で半導体洗浄装備メーカー、セメスの元研究員らが逮捕され裁判にかけられた。

水原(スウォン)地検防衛事業・産業技術犯罪捜査部はセメスの元社員Aと協力会社代表のB、中国国籍の技術流出ブローカーCら4人を産業技術保護法違反、不正競争防止法違反(営業秘密国外漏洩など)の容疑で逮捕起訴した。セメスの協力企業社員1人も同じ容疑で在宅のまま裁判に渡された。

2016年にセメスを退社し2019年に別の会社を設立したA被告は2021年6月にこの装備の図面をセメス協力企業代表のB被告からメッセンジャーアプリで受け取り、これをブローカーC被告に流した容疑を受けている。A被告は中国の半導体メーカーに超臨界洗浄装備10台(1台当たり248億ウォン)を納品し技術移転をして協約も結んだ。ただその後検察の捜査が始まり実際に装備が納品されたのかは確認されていない。セメスは超臨界技術開発研究費約350億ウォンなどの直接損害を受けたと推定される。

A被告はこのほか自身の会社を辞めたセメスの元研究員と共謀してセメスの枚葉式リン酸洗浄装備技術情報を持ち出した容疑も受けている。リン酸洗浄装備はリン酸薬液を使って半導体ウエハーを1個ずつ洗浄する装備だ。2019年7月から2022年10月まで会社の資金27億ウォンを横領した容疑もA被告は受けている。

検察は2021年10月からセメスの技術流出事件を捜査してきた。昨年1月~5月にA被告ら10人を裁判にかけた。A被告は当時、湿式半導体洗浄装備の技術を流出した容疑で逮捕起訴され裁判を受けたが、今回は超臨界半導体洗浄装備技術の流出容疑が提起され再び逮捕されて追加起訴された。A被告らは当時湿式洗浄装備20台を中国企業に売り1139億ウォンの利益を上げたとされる。検察は洗浄装備など234億ウォン相当の動産、301億ウォンほどの債券・不動産仮差押さえなど約535億ウォンに対し追徴補填命令を執行した状態だ。

検察はA被告らが持ち出した技術情報が20ナノメートル以下のメモリー製造などに使われる国家核心技術である点を強調した。検察関係者は「半導体設備分野の技術競争力低下は親会社の半導体生産競争力低下につながり、産業全般にわたって数兆ウォン以上の被害が発生する可能性がある」と話した。


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