役員昇進に脱落すると…中国に韓国の半導体コア技術を流出した韓国人

2023.01.27 11:42

大田地検庁舎［中央フォト］

２６日、特許庁技術デザイン特別司法警察（技術警察）と大田（テジョン）地検は半導体のウェハー研磨（ＣＭＰ）関連技術を中国に流出した疑い（産業技術保護法など違反）でＡ氏（５５）ら３人を拘束起訴し、３人は在宅起訴するなど６人を摘発したと発表した。

特許庁によると、韓国大手・中堅企業３社の前現職職員である彼らは、コンピューターや業務用携帯電話で会社内部網に接続し、半導体ウェハー研磨工程図など会社の機密資料を閲覧し、個人の携帯電話で写真を撮影する手口などを通じて資料を流出した疑いが持たれている。

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