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世界初の「超臨界半導体装備」中国に流出…韓国人一党5人法廷行き

ⓒ 中央日報/中央日報日本語版

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水原(スウォン)地検防衛事業・産業技術犯罪捜査部はセメスの元社員Aと協力会社代表のB、中国国籍の技術流出ブローカーCら4人を産業技術保護法違反、不正競争防止法違反(営業秘密国外漏洩など)の容疑で逮捕起訴した。セメスの協力企業社員1人も同じ容疑で在宅のまま裁判に渡された。


2016年にセメスを退社し2019年に別の会社を設立したA被告は2021年6月にこの装備の図面をセメス協力企業代表のB被告からメッセンジャーアプリで受け取り、これをブローカーC被告に流した容疑を受けている。A被告は中国の半導体メーカーに超臨界洗浄装備10台(1台当たり248億ウォン)を納品し技術移転をして協約も結んだ。ただその後検察の捜査が始まり実際に装備が納品されたのかは確認されていない。セメスは超臨界技術開発研究費約350億ウォンなどの直接損害を受けたと推定される。




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