日本が韓国に対する輸出規制を一部緩和した。日本経済産業省は２０日午後、ホームページで「フォトレジスト」に対する輸出審査・承認方式を従来の「個別許可」から「特定包括許可」に変更する包括許可取扱要領の一部改正令を公示した。７月の規制発表以降、初めての緩和措置であり、改正令は公示と同時に施行される。フォトレジストは半導体基板に塗る感光剤。日本産輸入依存率は８８％（昨年金額基準）にのぼる。しかし韓国政府は「緩和措置があまりにも微少」という反応だ。ただしピークを過ぎた韓日間の通商葛藤は少しずつ緩和する雰囲気が感知される。

韓国大法院（最高裁）の強制徴用判決問題で韓国政府と対立していた日本政府は７月１日、半導体・ディスプーの核心素材のフォトレジスト、フッ化ポリイミド、半導体洗浄に使う高純度フッ化水素（エッチングガス）の３品目を韓国に輸出する際、各品目を一般包括許可対象から個別許可対象に変更する経済報復措置を発表し、７月４日に施行した。続いて韓国を輸出管理優遇対象の「ホワイト国」から除外する輸出貿易管理令を改正し、８月２８日に施行した。

韓国政府も対抗した。産業通商資源部は９月、日本を世界貿易機関（ＷＴＯ）に提訴したのに続き、ホワイト国から日本を除外した。従来のホワイト国の「カ」地域を「カの１」と「カの２」に細分化し、日本を非ホワイト国レベルの規制を受ける「カの２」に分類した。


しかし韓国が先月２３日、韓日軍事情報包括保護協定（ＧＳＯＭＩＡ）終了直前に「ＧＳＯＭＩＡ終了通知」効力停止と同時にＷＴＯ提訴手続きの中断を発表し、雰囲気が反転した。その後、２０１６年６月以降中断されてきた韓日輸出管理政策対話を再開した。両国は７回目の会議までしたが、大きな成果は出せていない。

しかし韓国政府のＧＳＯＭＩＡ終了延期以降、「貿易管理上の優遇措置を提供するホワイト国への復帰は手続きが複雑であり短時間には難しいが、輸出規制が強化された３品目の一部は規制が緩和されることもある」という見方が出てきた。

フォトレジストが「特定包括許可」対象に変更され、韓国企業が日本製品を輸入する際の煩わしさは多少減る見込みだ。しかし「一般包括許可」と比べると依然として厳しい規制が残る。特定包括許可は、個別許可実績を積み上げて輸入実績が優秀な国内企業にだけ適用される。これに対し一般包括許可はすべての企業に３年に一度ずつ許可を受けるよう同一に適用される。産業通商資源部によると、今回の日本側の発表により特定包括許可の適用対象となった国内企業はわずか１社であり、フォトレジスト個別許可実績は６件という。

したがって韓国はすぐには対抗措置を緩和しないという立場だ。産業通商資源部の李浩鉉（イ・ホヒョン）貿易政策官は「輸出規制３品目のうちフォトレジスト１品目にだけ該当する措置であるうえ、特定包括許可に該当する国内企業は１社にすぎない」とし「７月１日の輸出規制以前に戻ることを望む我々の立場としては十分でない」と述べた。

それでも今後の交渉にはプラスに作用する可能性がある。特に２４日には中国で文在寅大統領と安倍晋三首相が首脳会談を行う。また、両国は近いうちにソウルで８回目の韓日輸出管理政策対話を始める。

関連業界は慎重な反応を見せている。半導体業界の関係者は「フォトレジストはメモリー半導体生産段階でほとんど使わないため、大きな意味があるとは考えにくい」とし「両国の貿易や半導体市場全体を見ると確かにプラスの信号だが、不確実性が完全に解消されたわけではないのでもう少し眺める必要がある」と話した。業界の別の関係者も「フォトレジストは必要量が多くないうえ、ベルギーの合弁会社からの迂回輸入も可能」とし「ただ、日本はひとまず大きな影響がない素材から問題を解決しようとしているようだ」と説明した。