日本が韓国に対する輸出規制を一部緩和した。７月の規制措置発表以降、初めての緩和措置だ。韓国政府は「緩和措置があまりにも微少」という反応だ。ただ、韓日間の通商葛藤はピークを過ぎた雰囲気が感知される。

日本経済産業省は２０日午後、ホームページを通じて「フォトレジスト」に対する輸出審査・承認方式を従来の「個別許可」から「特定包括許可」に変更すると明らかにした。これを受け、韓国企業が日本製品を輸入する際の煩わしさはやや減る見込みだ。しかし「一般包括許可」に比べると依然として厳しい規制が残っている。

特定包括許可は、個別許可実績を積み上げて輸入実績が優秀な国内企業にだけ適用される。一方、一般包括許可はすべての企業に３年に一度ずつ許可を受けるよう同一に適用する。産業通商資源部によると、今回の日本側の発表により特定包括許可の適用対象となった国内企業はわずか１社であり、フォトレジスト個別許可実績は６件という。「フォトレジスト」は半導体の基板に塗る感光剤。日本産輸入依存率が８８％（昨年の金額基準）にのぼる。


日本政府は７月４日、フォトレジストと共にスマートフォンやディスプレーなどに使われるフッ化ポリイミド、半導体の洗浄に使用されるエッチングガス（高純度フッ化水素）の素材３品目に対し、日本企業の韓国輸出手続きを厳しくする経済報復措置を取った。

韓国政府も対抗した。産業通商資源部は９月、日本を世界貿易機関（ＷＴＯ）に提訴したのに続き、ホワイト国（輸出手続き優遇国）から日本を除外した。従来のホワイト国の「カ」地域を「カの１」と「カの２」に細分化し、日本を非ホワイト国レベルの規制を受ける「カの２」に分類した。

しかし韓国が先月２３日、韓日軍事情報包括保護協定（ＧＳＯＭＩＡ）終了直前に「ＧＳＯＭＩＡ終了通知」効力停止と同時にＷＴＯ提訴手続きの中断を発表し、雰囲気が反転した。その後、２０１６年６月以降中断されてきた韓日輸出管理政策対話を再開することにした。両国は７回目の会議までしたが、大きな成果は出せていない。

日本が一部の規制を緩和したが、韓国はすぐには対抗措置を緩和しないという反応だ。産業通商資源部の李浩鉉（イ・ホヒョン）貿易政策官は「輸出規制３大品目のうちフォトレジスト１品目にだけ該当する措置であるうえ、特定包括許可に該当する国内企業は１社にすぎない」とし「７月１日の輸出規制以前に戻ることを望む我々の立場としては十分でない」と述べた。

それでも今後の交渉にはプラスに作用する可能性がある。特に２４日には中国で文在寅大統領と安倍晋三首相が首脳会談を行う。また、両国は近いうちにソウルで８回目の韓日輸出管理政策対話を始める。

関連業界は慎重な反応を見せている。半導体業界の関係者は「フォトレジストはメモリー半導体生産段階でほとんど使わないため大きな意味があるとは考えにくい」とし「両国の貿易や半導体市場全体を見ると確かにプラスの信号だが、不確実性が完全に解消されたわけではないのでもう少し眺める必要がある」と話した。業界の別の関係者も「フォトレジストは必要量が多くないうえ、ベルギーの合弁会社からの迂回輸入も可能」とし「ただ、日本はひとまず大きな影響がない素材から問題を解決しようとしているようだ」と説明した。