日本から全量輸入している半導体工程コーティング素材の国産化に政府出捐研究機関と中小企業が成功した。国家核融合研究所（核融合研）は微細粉末状態でも凝集しない溶射コーティング素材「酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）」を溶射コーティング専門会社セウォンハードフェイシングと共に最初に製造したと明らかにした。

酸化イットリウムは半導体工程の装備に必要な素材で、国内半導体企業は日本から輸入して使用している。

溶射コーティングは粉末状態の材料を半導体部品の表面に吹き付けて覆う技術。製品の耐熱・耐久性を高める過程だ。


韓国で製造した酸化イットリウムは核融合研のプラズマ技術を適用した。核融合研は国産酸化イットリウム製品のレベルは日本より優秀だと説明した。粉末同士が押し合う反発力が生じて凝集せず流れやすく、緻密で均一のコーティング膜を形成するのに粒子の大きさや流動度の側面で日本産を上回るということだ。

国家核融合研究所のホン・ヨンチョル博士は「プラズマ技術は半導体工程でなくとも幅広く素材産業に活用できる」とし「これを活用した素材技術国産化研究を続けていく計画」と述べた。