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サムスンが30年かけ開発した半導体洗浄技術、中国へ流出の試みが発覚

ⓒ 中央日報/中央日報日本語版

検察がA社から押収した製作中の洗浄装備。[写真 水原地検]

水原(スウォン)地検防衛事業・産業技術犯罪捜査部は19日、産業技術保護法違反と不正競争防止および営業秘密保護に関する法律(営業秘密国外漏洩など)違反の容疑で中国最大の半導体装備メーカーの系列韓国企業A社の運営者と設計チーム長の2人を拘束したと明らかにした。彼らとともに犯行に及んだA社など法人3社と社員9人も同容疑で在宅起訴した。


サムスン電子の洗浄工程エンジニア出身であるA社運営者らは2021年10月から昨年4月までサムスン電子子会社で韓国最大の半導体装備メーカーM社の退職者から洗浄装備チャンバー部(装備内に構成された洗浄作業が実際に行われる部分)の図面を確保した後、これを盗用して輸出用洗浄装備を製作した容疑を受けている。M社の洗浄装備移送ロボット図面を盗用して新たな輸出用ロボットを設計・製作したり、サムスン電子の洗浄工程レシピ(装備駆動細部手続きと方法を整理した文書)を活用して新たなレシピを作成した容疑も受けている。




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