マイクロンはサムスン電子だけでなくＳＫハイニックスと比較しても売り上げや生産能力で大きく劣る「万年メモリーナンバー３」だった。マイクロンはメモリービッグ３のうち唯一先端ＤＲＡＭ工程に必須の極端紫外線（ＥＵＶ）露光装備を備えていなかった。


これまでは３ナノメートル（１ナノメートル＝１０億分の１メートル）以下の最先端工程競争に入り込んだシステム半導体で主にＥＵＶを使ってきた。だがメモリー半導体業界でもＥＵＶ工程が当然視される雰囲気だ。サムスンとＳＫハイニックスは平沢（ピョンテク）と利川（イチョン）工場ですでに最新型ＤＲＡＭ生産にＥＵＶ工程を使っている。マイクロンがＥＵＶ装備なしでＨＢＭ３Ｅを量産するには工程効率の側面で大きな損害を甘受しなければならない。生産コストが大きく上がるという意味だ。