サムスン電子とオランダ半導体装備企業ＡＳＭＬが韓国首都圏に作ることにした未来半導体技術研究開発センターが京畿道華城（キョンギド・ファソン）の東灘（トンタン）先端産業団地近くに作られることがわかった。ＡＳＭＬが半導体メーカーと海外に研究開発センターを設立するのは今回が初めてだ。

サムスン電子とＡＳＭＬは１３日、総額７億ユーロ（約１兆ウォン）を投じて次世代半導体製造技術を研究するセンターを設立し共同運営することにしたと明らかにした。サムスン電子の慶桂顕（キョン・ゲヒョン）ＤＳ（半導体部門）社長は「ＡＳＭＬとの協力強化は欧州の半導体バリューチェーン強化と世界的供給網安定性に大きく寄与するだろう」と明らかにした。

今回の研究センターは次世代極端紫外線（ＥＵＶ）技術をベースに超微細製造工程とそれに必要な露光装備を開発するのが主目的だ。ＡＳＭＬが世界で唯一生産するＥＵＶ露光装備は半導体ウエハーに回路を描く核心装備だ。半導体は回路線幅が微細なほど性能が高まり、ＥＵＶ装備は７ナノメートル以下の微細回路の実現に必須だ。


半導体業界ではメモリーと装備部門でそれぞれ１位の同盟を意味深長に見ている。ＥＵＶはファウンドリー（半導体委託生産）超微細工程の実現に必要な装備に選ばれるが、最近ではむしろ最先端メモリー（ＤＲＡＭ）工程の核心に浮上している。ＤＲＡＭ１４ナノ工程からは歩留まりと生産単価などの問題でＥＵＶ使用が必須であるためだ。サムスン電子は「今回の協力を通じて最先端メモリー開発に必要な次世代ＥＵＶ量産技術を早期に確保し、『メモリー超格差』を通じて３０年間守ってきたメモリー世界１位の座をしっかり守っていく計画」と明らかにした。

この日ＳＫハイニックスもＡＳＭＬとＥＵＶ工程で電力使用量と炭素排出を減らす技術を共同開発することにした。ヒョンデ（現代自動車）は車載用半導体市場シェア２位であるオランダ企業ＮＸＰなどと協力することにした。