日本が独自の半導体生態系構築に乗り出し韓国の半導体業界との正面勝負も徐々に避けられなくなっている。［シャッターストック］
日本は半導体の素材・部品・装備分野で世界的な企業を前面に出し３０年ぶりの半導体雪辱に出た。キヤノンは最近独自開発したナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）技術を使ってＡＳＭＬの極端紫外線（ＥＵＶ）露光装備を代替するための第一歩を踏み出した。商用化に成功すれば半導体産業の覇権を揺さぶるゲームチェンジャーになれるというのが業界の見方だ。
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