通常７ナノ級以下はオランダ企業ＡＳＭＬの極端紫外線（ＥＵＶ）露光装備で作る。その間、中国は米国の制裁でＥＵＶ装備を使用できなかった。このためＳＭＩＣは旧型深紫外線（ＤＵＶ）装備を反復進行する方式で７ナノ級の微細回路を作ったとみられる。台湾ＴＳＭＣが数年前にＥＵＶなく７ナノ工程を実現したのと似た方法だ。
華為の７ナノスマートフォン開発は米国の対中国半導体制裁の実効性めぐる論争を呼んでいる。「米国の技術統制が当初の意図とは反対に中国の半導体自立を加速させる」という懸念だ。華為のスマートフォンを分析したテックインサイトは「中国政府の半導体生態系構築努力がある程度進展したことを示唆する」とし「今回の件は米国の頬を殴るものだ」と表現した。
華為の７ナノスマートフォン開発は米国の対中国半導体制裁の実効性めぐる論争を呼んでいる。「米国の技術統制が当初の意図とは反対に中国の半導体自立を加速させる」という懸念だ。華為のスマートフォンを分析したテックインサイトは「中国政府の半導体生態系構築努力がある程度進展したことを示唆する」とし「今回の件は米国の頬を殴るものだ」と表現した。
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