世界最高水準のめっき膜平坦度化を実現した半導体用高性能銅めっき液の源泉技術を独自開発した韓国生産技術研究員のイ・ミンヒョン博士（左）が研究員と共に半導体銅めっき液をテストしている。［写真 韓国生産技術研究院］
新環境熱表面処理研究部門のイ・ミンヒョン博士研究チームは、３年間で約１万５０００回の実験を繰り返した末に、めっき膜の表面を平坦化する各種有機添加剤のうち最適の添加剤とその混合比率を突き止め、めっき厚偏差「２％以内」という世界最高水準の高平坦度化を実現した。
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世界最高水準のめっき膜平坦度化を実現した半導体用高性能銅めっき液の源泉技術を独自開発した韓国生産技術研究員のイ・ミンヒョン博士（左）が研究員と共に半導体銅めっき液をテストしている。［写真 韓国生産技術研究院］
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