「サムスンも順番待ち」 半導体のスーパーサイクルを鍵握る「スーパー乙」

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2021.01.25 10:12

オランダのＡＳＭＬ社のＰｅｔｅｒ　Ｗｅｎｎｉｎｋ最高経営責任者（ＣＥＯ）。

ＡＳＭＬのＥＵＶ露光装備は半導体露光工程（写真を撮るように半導体原版であるウェハーに回路を刻む作業）に必要だ。光の波長が短ければウェハーに半導体回路を細かく描けるが、ＡＳＭＬの装備は従来の１９３ナノメートル（１ナノメートルは１０億分の１メートル）の１４分の１水準である極端紫外線を使うため、より精巧な作業が可能だ。このような点で５ナノメートル以下の半導体超微細工程における核心装置に挙げられている。

過去には日本のニコンやキヤノンなども関連製品を出していたが、ＡＳＭＬに押されてＥＵＶ市場から消えた。業界関係者は「最新半導体サプライチェーンで、唯一サプライヤーが１社だけの分野」とし「半導体メーカーが顔色を伺わざるをえない」と話した。

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