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「サムスンも順番待ち」 半導体のスーパーサイクルを鍵握る「スーパー乙」

ⓒ 中央日報/中央日報日本語版

オランダのASML社のPeter Wennink最高経営責任者(CEO)。

ASMLのEUV露光装備は半導体露光工程(写真を撮るように半導体原版であるウェハーに回路を刻む作業)に必要だ。光の波長が短ければウェハーに半導体回路を細かく描けるが、ASMLの装備は従来の193ナノメートル(1ナノメートルは10億分の1メートル)の14分の1水準である極端紫外線を使うため、より精巧な作業が可能だ。このような点で5ナノメートル以下の半導体超微細工程における核心装置に挙げられている。


過去には日本のニコンやキヤノンなども関連製品を出していたが、ASMLに押されてEUV市場から消えた。業界関係者は「最新半導体サプライチェーンで、唯一サプライヤーが1社だけの分野」とし「半導体メーカーが顔色を伺わざるをえない」と話した。




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