日本の日立化成工業が韓国半導体装備会社のケイシーテックに対し、自社のＣＭＰスラリー関連の米国特許を侵害したとして、米テキサス州オースティン西部地裁に訴訟を起こす１５日、明らかにした。
日立化成側は「ケイシーテックとの問題解決のために協議を進めたが、合意点を見いだせなかった」とし「今後も特許と知的財産権保護のために積極的に権利を行使する」と強調した。
一方、ケイシーテック側は「私たちも長い間準備してきた。特許無効などの対応と同時に、われわれの特許を侵害した部分について積極的に対応していく計画」と明らかにした。
日立化成側は「ケイシーテックとの問題解決のために協議を進めたが、合意点を見いだせなかった」とし「今後も特許と知的財産権保護のために積極的に権利を行使する」と強調した。
一方、ケイシーテック側は「私たちも長い間準備してきた。特許無効などの対応と同時に、われわれの特許を侵害した部分について積極的に対応していく計画」と明らかにした。
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