ハイニックスの研究所長のパク・ソンウク副社長は「30ナノ級工程より生産性が2倍ほど高く、業界最高レベルのコスト競争力を確保することになった」と述べた。
ハイニックスは昨年8月、30ナノ級NAND型フラッシュメモリーを開発したが、6カ月後に20ナノ級工程の開発にも成功した。07年からの半導体不況にもかかわらず、売上高の1割を研究開発に持続的に投資し、インテルとSTマイクロエレクトロニクスの合弁会社ニューモニクスと分業戦略を通してナノ工程微細化期間を短縮した。
ハイニックスは昨年8月、30ナノ級NAND型フラッシュメモリーを開発したが、6カ月後に20ナノ級工程の開発にも成功した。07年からの半導体不況にもかかわらず、売上高の1割を研究開発に持続的に投資し、インテルとSTマイクロエレクトロニクスの合弁会社ニューモニクスと分業戦略を通してナノ工程微細化期間を短縮した。
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