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三星の半導体技術、米装備会社経由で外部に流出 

ⓒ 中央日報/中央日報日本語版
ソウル東部地検は3日、「半導体製造工程に関する三星(サムスン)電子の核心技術が米国装備会社AMATを通して流出した」とし「このうち一部は国内競争会社のハイニックスなどに渡った」と発表した。


6年間にわたり流出した技術は、国家核心技術に指定されたDRAMとNAND型フラッシュメモリーの製作工程など95件で、ハイニックスには13件が渡ったという。特に三星電子から流出した技術が米国など海外競合他社にも渡った可能性が高い、というのが検察の説明だ。




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