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ハイニックス中国工場、停電で生産が一時中断

中国江蘇省無錫にあるハイニックス半導体のDRAM工場で、停電のため生産が一時中断する事故が発生した。

ハイニックスは外部変電所の送電施設の問題で19日午前11時30分(現地時間)から15時間、電気の供給が中断したと20日、明らかにした。

停電発生直後から主要装備には非常電力供給装置(UPS)を通じて最小限の電源を供給、ウエハーの損失は大きくないと、会社側は説明した。


現在は電力復旧が完了したが、ウエハー洗浄、装備点検などが必要なため、まだ正常には稼働していないという。

金鍾甲(キム・ジョンガプ)ハイニックス社長はこの日、「一部の工程はすでに稼働に入り、遅くとも2日後には完全に稼働する」とし「生産への支障は世界年間DRAM生産量の0.1-0.15%にしかならない」と話した。

ハイニックスは、停電当時生産中だったウエハーの直接損失が600万-700万ドルで、これに約2日間の生産支障損失1000万-1100万ドルを合わせると売上高に最大1800万ドルの影響が予想される、と説明した。

無錫工場はハイニックスとSTマイクロ(現ニューモニクス)の共同投資で06年から生産に入った。 現在300ミリ(12インチ)工程のC2ラインと200ミリ(8インチ)のC1ラインを稼働している。 C2ラインはウエハー投入基準で月12万枚、C1ラインは月7万枚の生産能力がある。 ハイニックスのDRAM総出荷量の45%を占める。



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