SKハイニックスの中国無錫工場先端化作業が米国の反対で座礁する可能性があると、ロイター通信が18日報じた。
報道によると、SKハイニックスはオランダ半導体装備企業ASMLの最新極端紫外線(EUV)露光装備を中国の無錫工場に導入する予定だった。
ロイター通信はホワイトハウス関係者の言葉を引用し、「バイデン政権は中国が軍事現代化に役立つ先端半導体を製造するため、米国と同盟国の技術の使用を防ぐことに焦点を合わせている」と明らかにした。
ただ、米政府がEUV装備の中国搬入を最終的に認めないかどうかについては、同関係者は具体的な言及を避けたと、ロイター通信は伝えた。
報道によると、SKハイニックスはオランダ半導体装備企業ASMLの最新極端紫外線(EUV)露光装備を中国の無錫工場に導入する予定だった。
ロイター通信はホワイトハウス関係者の言葉を引用し、「バイデン政権は中国が軍事現代化に役立つ先端半導体を製造するため、米国と同盟国の技術の使用を防ぐことに焦点を合わせている」と明らかにした。
ただ、米政府がEUV装備の中国搬入を最終的に認めないかどうかについては、同関係者は具体的な言及を避けたと、ロイター通信は伝えた。
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